怎樣突破50納米樣品觀測? 可見光超分辨顯微鏡給您答案
近些年來，超分辨顯微技術得到了快速發展，當前主要的超分辨技術有結構光照明（SIM）、受激發射損耗（STED）、光激活定位顯微（PALM）、隨機光學重構（STORM）等，獲諾獎的兩種超分辨技術分別是STED和單分子定位顯微技術，后一類技術的典型代表目前有光激活定位顯微（PALM）和隨機光學重構顯微（STORM）。 新加坡國立大學洪明輝教授團隊在應用微球進行激光patterning實驗中，發現并實現了微球非接觸式可控成像。在新加坡國家研究基金的支持下，發明了Optical Microsphere Nanoscopy (OMN)超分辨顯微成像技術，以傳統光學顯微鏡為基礎結構，成功開發出以可見光光源在環境空氣條件下的超分辨顯微系統。 Phaos Technology基于OMN專利技術研制生產的OptoNano200型超分辨光學顯微鏡，實現了多類樣品的 100nm~結構的直接光學表征。 OptoNano200型超分辨光學顯微鏡 長期以來，我國缺乏高端顯微光學系統及其關鍵部件的自主研發與創新能力，這嚴重制約了我國的重大科學發現和技術創新，已經成為我國前沿科學研究和科學儀器行業發展的瓶頸。目前，國內運用的售價在200萬元到500萬元不等的高端激光掃描共聚焦顯微鏡全部依賴進口。而國外最先進的一臺超分辨顯微光學系統，報價要達到1000萬元。 而洪教授團隊研發的OMN光學超分辨技術，在~100納米尺度，具備多項應用優勢，為眾多潛在微觀生物醫學研究，納米材料開發，半導體與微電子應用等等領域提供了突破性的嶄新工具。 OPTONANO200觀測優勢 2、繼續突破：100納米以下 由上2圖清晰可見，OptoNano200型超分辨光學顯微鏡觀測效果有明顯突破，期待Phaos這項前所未有的以可見光直接顯微成像，表征納米尺度的微觀結構的技術突破，成為助力眾多領域基礎科學探索的科學家們，廣闊創新技術追求的工程師們的令人憧憬的嶄新工具。
50nm 線寬的特征線, 由SEM確認尺度，以ON200超分辨模式（ON200物鏡系統）可以清晰完整觀察該特征線的連續像。
轉自： PHAOS納微光科技
